Photochemisches Ätzen

Photo Chemical Etching Process

Sie können beim photochemischen Ätzverfahren Stahl, Metall und NE-Metall “anätzen” oder “durchätzen”, je nach Bedarf.
Eine exakte Definition von Intensität und Dauer des Ätzens ist immer notwendig, um optimale und präzise Resultate zu erzielen.

  Wie im Siebdruck wird ein positives Lithos erstellt, das im Archiv aufbewahrt wird.
  Ein Negativ-Lithos dient als Vorlage für den weiteren Fertigungsprozess.
  Eine Platte aus Stahl, Spezialstahl oder einem NE-Metall wird mit einer UV-lichtempfindlichen Beschichtung versehen.
   Das beschichtete Material wird zwischen zwei Lithofilmtaschen eingelegt.
Im Vakuum wird das Material von beiden Seiten mit UV-Licht belichtet. Das Licht trifft dabei durch die Aussparungen im Lithofilm auf die Beschichtung.
Dort, wo das Licht auftrifft, reagiert die Beschichtung und bleibt am Material haften.
  Die Platte wird aus den Lithofilmtaschen entnommen.
Anschließend werden die unbelichteten Flächen der Beschichtung (die nicht mit dem Metall reagiert sind) mit Wasser entfernt.
  Wo das Licht wirken konnte, bleibt die ätzresistente Beschichtung auf dem Material.
  Von beiden Seiten wird geätzt.
Dabei bleiben die beschichteten Flächen erhalten, alles andere wird entfernt.
  Von den erstellten Teilen wird nun die ätzresistente Beschichtung mittels einer Lauge abgebürstet.
  Zum Schluß werden die Teile einer Maßkontrolle sowie einer Endkontrolle unterzogen.
Die Teile sind fertig.
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